Alta fornace di grafitizzazione del film di conducibilità per produzione di grafitizzazione del film di pi
Applicazione:
Si applica alla produzione della grafitizzazione di alto film della conducibilità termica (film di pi).
Caratteristiche:
L'uniformità di temperatura del corpo della fornace: il riscaldamento di induzione per media frequenza, riscaldamento veloce, alta efficienza, progettazione unica della fornace, notevolmente migliorante l'uniformità di temperatura della fornace;
Consumo di energia basso e buona stabilità: il primo uso del mondo del materiale di isolamento del mattone dell'allumina di doppio strato impedire cortocircuito del feltro e della bobina del carbonio, il buona isolamento termico e resistenza al fuoco, perdita a calore ridotto e buona stabilità dell'attrezzatura;
Secondo i bisogni del tempo di processo della sinterizzazione, una pluralità di forni elettrici può essere sistemata in una singola alimentazione elettrica e la pluralità di fornaci è stimolata rispettivamente per sollevare la temperatura ed il basso spento e fresco per realizzare il servizio continuo;
Sistema di controllo di flusso di Digital, monitoraggio di scorrimento dell'acqua e protezione di ogni gabinetto dell'alimentazione elettrica, contattore ad alto rendimento di frequenza intermedia per la conversione della fornace; acqua completa dello SpA, controllo automatico del gas e di elettricità e sistema di protezione.
I parametri tecnici principali:
Temperatura di funzionamento massima: 3000 ° C
Temperatura comune: 2800 ° C
Ambiente di lavoro nella fornace: vuoto, idrogeno, azoto, gas inerte, ecc.
Uniformità di temperatura: ° C del ± 25 del ≤
Misura di temperatura: misura ottica infrarossa lontana di temperatura (° 1000-3200 C);
Accuratezza di misura di temperatura: 0,2 - 0,75%
Controllo della temperatura: controllo di programma e controllo manuale; accuratezza del controllo della temperatura: °C ±1
| Modello Specification del prodotto | |
| Volume (l) | 282 |
| Temperatura nominale (°C) | 2800 |
| Temperatura limite (°C) | 3000 |
| Efficace zona di riscaldamento (millimetri) | Φ600X1000 |
| Potere (chilowatt) | 300 |
| Frequenza (hertz) | 1000 |
| Metodo del controllo della temperatura | Termostato elettrico dell'isola giapponese |
| Metodo di riscaldamento | Riscaldamento di induzione |
| Sistema di vuoto | Pulsometro rotatorio della pala (requisito di alto vuoto con il pulsometro di radici) |
| Atmosfera di sinterizzazione | N2, Ar2 ed altri gas |
| Tensione di alimentazione elettrica stimata (v) | 380 |
| Tensione di riscaldamento stimata (v) | 750 |
| Limite di vuoto (PA) | 100 (stato freddo di vuoto) |
